海(hai)康(kang)微(wei)影(ying)HIKMICRO紅外熱像(xiang)儀、PCB加(jia)速度傳(chuan)感(gan)器、PCB Piezotronics傳(chuan)感(gan)器、數據(ju)采(cai)集儀、應力(li)應變(bian)儀、紫(zi)外成像(xiang)儀、精(jing)密(mi)木工機械(xie)、木(mu)工實(shi)驗(yan)室設(she)備、SawStop木工臺(tai)鋸(ju)、AVIO紅(hong)外熱像(xiang)儀、法(fa)國CA測試(shi)儀器、IMPAC紅外測溫(wen)儀、紅(hong)外檢(jian)測服務(wu)、鋼絲(si)繩無(wu)損(sun)檢(jian)測、鋼絲(si)繩探(tan)傷(shang)服(fu)務(wu)、MIKRON黑(hei)體(ti)校準(zhun)源(yuan)
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Avio(NEC) R550紅(hong)外熱像(xiang)儀 石墨(mo)烯(xi)材(cai)料(liao)研發(fa)
Avio(NEC) R550紅(hong)外熱像(xiang)儀 石墨(mo)烯(xi)材(cai)料(liao)研發(fa)
R500ex紅(hong)外熱像(xiang)儀 用(yong)於研究石墨(mo)烯(xi)材(cai)料(liao)加(jia)溫和(he)溫度釋(shi)放
石墨(mo)烯(xi)(Graphene)是壹種由碳(tan)原(yuan)子以(yi)sp2雜化(hua)方式(shi)形(xing)成的(de)蜂(feng)窩(wo)狀平(ping)面薄(bo)膜(mo),是壹種只(zhi)有(you)壹個(ge)原(yuan)子層(ceng)厚度的(de)準(zhun)二維(wei)材(cai)料(liao),所(suo)以(yi)又叫(jiao)做單(dan)原(yuan)子層(ceng)石墨(mo)。英國曼徹(che)斯(si)特大(da)學物理(li)學(xue)家(jia)安德烈(lie)·蓋姆和康(kang)斯(si)坦(tan)丁·諾沃(wo)肖洛(luo)夫,用(yong)微(wei)機械(xie)剝(bo)離(li)法(fa)成功(gong)從(cong)石墨(mo)中(zhong)分離(li)出石墨(mo)烯(xi),因此共同(tong)獲(huo)得(de)2010年(nian)諾(nuo)貝爾物理(li)學(xue)獎(jiang)。石墨(mo)烯(xi)常見的(de)粉(fen)體(ti)生產(chan)的(de)方法(fa)為機械(xie)剝(bo)離(li)法(fa)、氧(yang)化還原(yuan)法(fa)、SiC外延生(sheng)長法(fa),薄膜(mo)生產(chan)方法(fa)為化學氣相沈(chen)積法(fa)(CVD)。[1] 由於其十(shi)分良好的(de)強(qiang)度、柔(rou)韌、導電(dian)、導熱(re)、光(guang)學(xue)特性,在(zai)物理(li)學(xue)、材(cai)料(liao)學、電(dian)子信(xin)息、計算機、航(hang)空航(hang)天(tian)等領(ling)域都得(de)到(dao)了(le)長足(zu)的(de)發(fa)展(zhan)。
以(yi)下是國內某(mou)**研究所(suo)在利(li)用Nippon avio R500ex 紅外熱像(xiang)儀對石墨(mo)烯(xi)薄片(pian)材(cai)料(liao)進行(xing)熱分(fen)析(xi),分析(xi)材(cai)料(liao)升溫和(he)降(jiang)溫(wen)時(shi)間和(he)材(cai)料(liao)特性。
使用設(she)備:Avio R500EX-PRO
測溫(wen)範(fan)圍(wei): -40 to +2000°C
標(biao)準(zhun)模式(shi):記(ji)錄像(xiang)素(su): 640 x 480像素(su).
超(chao)分辨率(lv)(SR)模式(shi)::記(ji)錄像(xiang)素(su): 1280 x 960 像素(su)
Avio(NEC) R550紅外熱像(xiang)儀 石墨(mo)烯(xi)材(cai)料(liao)研發(fa)



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